通过sol-coating和激光绘制技术制备和性能研究Tm3+化光纤
Applied optics
|August 12, 2025
概括
这项研究开发了一种新的方法,用于创建高度的图 (Tm3+) 合的光纤,使用sol-coating和CO2激光绘制. 这一过程提高了Tm3+离子度,并减少了先进激光应用的扩散.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光子学 是一个光子学.
- 激光技术 激光技术 激光技术
背景情况:
- 高度的图 (Tm3+) 合的光纤对单频激光器至关重要.
- 现有的制造方法面临着实现高兴奋剂度和减轻离子扩散的挑战.
研究的目的:
- 开发和演示一种用于制造高度Tm3+化单模二氧化光纤的新方法.
- 为了研究索尔涂层和CO2激光绘制技术在增强纤维特性方面的有效性.
主要方法:
- 对Tm3+离子的纳入进行了研究,研究了在二氧化毛细血管内的层涂层.
- 采用二氧化碳激光绘图技术用于纤维制造.
- 描述了在1940nm时制造的光纤的光学和增益特性.
主要成果:
- 成功制造了一种Tm3+化单模光纤,其核心成分为Tm-La-Al-Si.
- 获得了0.5mol%的Tm3+兴奋剂度,核心/外直径为5/130μm,数值孔径 (NA) 为0.28.
- 在1940nm测量了0.15dB/cm的小信号净增强系数.
结论:
- 结合的索尔涂层和CO2激光绘制方法有效地提高了Tm3+离子兴奋剂度,并最大限度地减少了离子扩散.
- 这种新的制备技术为制造用于激光应用的高度合化纤维提供了有价值的方法.


