概括
研究人员开发了一种使用微镜阵列的新型埃克西默激光同质化技术,以改善高级光刻技术的光束均性. 这种方法在高功率的脱激光器中实现了1.28%的低非均性.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 激光技术 激光技术 激光技术
- 半导体制造业 半导体制造业
背景情况:
- 高功率的催化激光器对于先进的光刻工艺至关重要.
- 实现均的照明对于石版画中高分辨率的图案设计至关重要.
研究的目的:
- 为了研究和开发一个有效的排挤激光同质化方法,用于光刻.
- 为实用光源提出一个可调节的排外激光模型.
- 设计一款具有提高光束均性的高功率排放激光同质化器.
主要方法:
- 使用微镜阵列进行激光均化.
- 开发了一种可调节的,基于多高斯斯谢尔模型部分连贯光的脱激光模型.
- 在同质化器设计中采用矩阵光学和标尺衍射理论.
- 分析了激光稳定性参数对均性的影响.
主要成果:
- 使用设计的同质化器,使用1.28%的低不均度实现了方形梁.
- 拟议的可调节的排外激光模型准确地反映了实际光源条件.
- 实验验证证了模型的准确性和同质化器的可靠性.
结论:
- 开发的基于微镜阵列的排挤激光同质化有效地满足了 lithography 的要求.
- 可调节的激光模型和同质化器设计提供了一个可靠的解决方案,用于统一的高功率激光照明.
- 这项研究证实了激光稳定对于在石版系统中保持光束均性的重要性.
