SiN,.

Optics express
|August 13, 2025
PubMed
概括

研究人员开发了一种新的化 (SiN) 曲结构,使用深度蚀刻槽. 这一创新大大减少了光子集成电路 (PIC) 的曲半径和损失,使得更紧的设计成为可能.