概括
在纳米光刻技术中使用的网格由于场增强而比平板具有较低的激光损伤值. 格子变形,不仅仅是光学变化,信号潜在的灾难性损坏.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
- 半导体制造业 半导体制造业
背景情况:
- 网格的光学衍射对于纳米石墨学中晶圆对齐至关重要.
- 较小的网格需要更高的激光流量,增加光学损伤的风险.
- 了解格中的激光诱导损伤对于半导体制造至关重要.
研究的目的:
- 为了研究光诱导的光学和结构变化在网格在秒激光脉冲下.
- 为了确定电网格损伤机制的流动性值,与平板相比.
- 为了将激光损伤值与局部吸收功率密度相关联,并了解变形效应.
主要方法:
- 暴露平板和格子,以单一的femtosecond激光脉冲.
- 测量光学和结构变化,包括火山口形成和格子变形.
- 近场严格合波分析 (RCWA) 用于计算吸收功率密度配置文件.
主要成果:
- 损伤机制的流动值在格中比在平板中低10-50%.
- 格子中的局部现场增强显著降低了损坏值.
- 观察到格线变形,包括反转,与损伤开始相关.
结论:
- 格地形降低了中的激光损伤值,需要仔细控制流动性.
- 格线变形是即将发生的灾难性激光诱导损伤的早期指标.
- 这些发现为减轻半导体制造业的网格中的激光损伤提供了洞察力.


