高Q化物膜共振器的制造和特征
Atkin D Hyatt1, Oscar A Flores2, Aman R Agrawal2
1Wyant College of Optical Sciences, University of Arizona, Tucson; atkindavidhyatt@arizona.edu.
Journal of visualized experiments : JoVE
|August 25, 2025
概括
本教程详细介绍了高Q化 (Si3N4) 共振器的制造,这对于光学学来说至关重要. 它为设计,制造和测试这些先进的纳米设备提供了实用指南.
科学领域:
- 视觉机械
- 材料科学
- 纳米技术
背景情况:
- 化膜是关键的光机械共振平台.
- 制造和描述通常依赖于共享的默认知识.
- 现有的方法缺乏全面的,可访问的协议.
研究的目的:
- 为化膜共振器制造和表征提供详细的视频教程.
- 为了让新人了解这个过程,
- 展示高Q因子的厘米尺度Si3N4纳米丝带的制造.
主要方法:
- 用于设备设计的有限元模拟.
- 晶片和芯片尺度加工包括光刻法,干/湿蚀刻.
- 基于光学杆的读数和回落测量用于表征.
主要成果:
- 制造厘米尺度Si3N4纳米带的演示.
- 在室温下达到超过10^8的Q因子.
- 详细的协议适用于标准的洁净室环境.
结论:
- 这本书提供了关于化共振器制造的全面实用指南.
- 它降低了光学和相关领域的研究人员的入门障碍.
- 提出的方法可以创建高性能光机械设备.


