通过系统间交叉抑制增强单分子成像

Fan Ding1, Song Chen1, Fei Du1

  • 1Department of Chemistry and Shanghai Key Laboratory of Molecular Catalysis and Innovative Materials, Fudan University, Shanghai 200438, China.

概括

研究人员开发了一种新的Cy5染料衍生物Cy5-N,可显著提高单分子成像的光稳定性和信号噪声比. 这种创新克服了传统Cy5染料的局限性,使生物样本的观察更清晰,更长时间.