在薄膜基酸盐平台上的低损耗多层化辅助边缘合器,采用光刻法

科学领域:

• 光子学 是一个光子学.
• 材料科学 材料科学 材料科学
• 集成光学 集成光学 集成光学

背景情况:

• 薄膜酸 (TFLN) 是光子集成电路 (PIC) 的一个关键材料.
• 光纤和TFLN波导之间的高效光合仍然是一个重大挑战.
• 现有的点尺寸转换器 (SSC) 设计通常依赖电子束光刻 (EBL),限制大规模生产.

研究的目的:

• 为TFLN PICs开发一种新的,与光刻法兼容的点尺寸转换器.
• 为了提高TFLN的轻合解决方案的稳定性和制造效率.
• 加强TFLN设备在光学系统中的集成.

主要方法:

• 在TFLN平台上提出并制造了一个多层化 (SiN) 辅助的SSC.
• 采用光刻法制造,使大规模生产成为可能.
• 具有合效率,损耗和耐受制造变化的特点.

主要成果:

• 在C频段实现了每面1.2dB的合损失,波长依赖的损失在C频段低于0.4dB.
• 保持了超过85%的合效率,尽管TFLN波导宽度偏差为±200 nm,高度偏差为±30 nm.
• 证明了3dB ±3μm的误调容忍度,提高了包装的稳定性.

结论:

• 开发的SiN辅助SSC为TFLN PIC提供了一个实用,坚固和易于制造的解决方案.
• 基于光刻工艺的制造克服了EBL对大规模生产的局限性.
• 这一进步促进了TFLN技术在光学系统中的更广泛采用和整合.