300毫米晶圆尺度的SiN平台用于与原子参考相容的宽带单离子微
Optics letters
|September 16, 2025
概括
我们开发了一种新的化制造工艺,用于芯片集成的光学频率在300mm晶圆上. 这种可扩展的方法可以为原子钟和LiDAR中的应用产生宽带频率.
科学领域:
- 光子学是指光子学的使用方法.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 芯片集成的光频 (OFC) 对于位置,导航和定时等应用至关重要.
- 化 (SiN) 是一个常见的平台,但传统的LPCVD对大规模制造有局限性.
研究的目的:
- 报告微环共振器的线性性能和宽带频率 generation.
- 在300mm晶圆上展示一种新的SiN制造工艺,与大规模生产和集成相兼容.
主要方法:
- 在300mm晶圆上制造微波振器,使用低温等离子体增强化学蒸汽沉积 (PECVD) 工艺对SiN薄膜.
- 线性性能的表征,包括插入损失和质量因子.
- 演示宽带单元微组合生成与可调节的分散.
主要成果:
- 在300mm晶圆上保持一致的性能,厚度变化为±2%.
- 高固有质量因子和低插入损失.
- 宽带单离子微生成延伸到原子过渡波长.
结论:
- 在300mm晶圆上的PECVD SiN平台适用于可批量生产的光子设备.
- 这一进步支持集成光学时钟,LiDAR和其他先进的应用.
- 该过程与电子和光子集成兼容,为更复杂的系统铺平了道路.


