16×56-Gbps WDM传输在一个原子层沉积的Er-doped波导放大器中

科学领域:

• 光子学和光学工程 光子学和光学工程
• 材料科学用于集成电路.

背景情况:

• 在芯片上的放大器对于光通信中具有成本效益和紧的波长分割多重复合 (WDM) 接收器至关重要.
• 对于更高的数据速率的需求,需要在光子集成电路内提供先进的放大解决方案.

研究的目的:

• 为了研究一种新型的芯片上的氧化波导放大器的WDM信号传输性能.
• 为了评估放大器的增益,输出功率和适合高速数据传输.

主要方法:

• 使用原子层沉积制造氧化波导放大器的制造.
• 放大器在C频段的净增益和1531.6nm的峰值性能的表征.
• 16通道56GbpsWDM传输的演示,以评估信号完整性.

主要成果:

• 在C频段实现了超过5.0dB的净增益,芯片上的峰值净增益为11.1±1.5dB.
• 在1531.6 nm时达到4.1 ± 1.4 dBm的最大芯片输出功率.
• 证明了成功的16通道56GbpsWDM传输,Q2值与背对背测试相比较.

结论:

• 制造的芯片上的波导放大器表现出宽带增益和高输出功率,适合C频段操作.
• 放大器显示出在WDM系统中实现高速连贯数据传输的巨大潜力.
• 这一发展有助于推进用于下一代光通信的集成光子电路.