等离子和介电散射器的角度分辨率阴极光发射干扰计
Evelijn Akerboom1, Hiroshi Sugimoto2, Minoru Fujii2
1Center for Nanophotonics, NWO-Institute AMOLF, Science Park 104, 1098 XG Amsterdam, The Netherlands.
我们开发了角度分辨率阴极光发射 (CL) 干涉计,以精确测量纳米尺度的距离. 这种技术使用电子束激发来创建干扰的光模式,揭示粒子-基板间距和电子的旅行时间.
科学领域:
- 纳米光子学 纳米光子学
- 塑制剂的使用方法
- 电子显微镜电子显微镜
背景情况:
- 阴极光发射 (CL) 是一种分析纳米材料的强大技术.
- 精确测量纳米尺度的距离,特别是沿着电子束,仍然是电子显微镜的挑战.
研究的目的:
- 引入和验证角度分辨率的CL干扰计,以实现精确的纳米尺度计量.
- 为了证明其在确定粒子-基板间距和电子旅行时间方面的能力.
主要方法:
- 使用20-30 keV的电子束来激发等离子和介电纳米结构.
- 通过分析发射辐射与其反射图像之间的干扰,采用干扰计.
- 结合来自金基板的过渡辐射,用于电子旅行时间探测.
主要成果:
- 在实验性CL干扰图和散射干扰计模型之间取得了很好的一致性.
- 通过偏振解析的CL测量证实了模型.
- 在电子激发的Mie散射器中观察到共振增强.
结论:
- 在纳米尺度几何学中,CL干涉测量为精确测量临界距离提供了一种新的方法.
- 这种技术为研究复杂纳米结构中的光学干扰现象提供了一个新的平台.
- 它克服了传统电子显微镜在特定维度测量方面的局限性.
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