概括
我们在化平台上开发了第一个超紧的双带网格合器,用于可见波长. 该设备同时有效地将729nm和860nm的光结合起来,使其能够在集成离子量子比特系统中应用.
科学领域:
- 光子学和光学工程的工程.
- 集成光学 集成光学 集成光学
- 纳米光子学 纳米光子学
背景情况:
- 高效的光合对于集成光子设备至关重要.
- 现有的网格合器往往缺乏双带功能或是重的.
- 化 (Si3N4) 为可见光应用提供了一个强大的平台.
研究的目的:
- 为了介绍第一个可见波长的超紧的双频网格合器.
- 为了实现729nm和860nm的同时光合.
- 为了展示该设备在集成离子量子比特系统中的潜力.
主要方法:
- 化 (Si3N4) 平台的理论和数值分析.
- 一个一维的 (1D) 格子合器的设计,与形状优化的点尺寸转换器 (SSC) 集成.
- 对于模式转换和点大小匹配的辅助方法优化.
主要成果:
- 实现了 -4.12 dB在729 nm和 -5.5 dB在860 nm的电网合器的合效率.
- 获得的总合效率为 -4.28 dB在729 nm和 -5.57 dB在860 nm与SSCs.
- 设备尺寸是超紧的,大约为65μm × 10μm.
结论:
- 开发的双带网格合器是高效和超紧的.
- 该设备可以同时合两个可见波长.
- 这项技术对于将光源与CMOS兼容系统中的内平面多波长离子陷设备相接是有前途的.
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