反向设计的1 × 2功率分离器在X切割薄膜酸尼奥酸平台上,通过DUV光子集成进行DUV光子集成

科学领域:

• 光子学是指光子学的使用方法.
• 材料科学 材料科学 材料科学
• 纳米技术纳米技术

背景情况:

• 基于尺度的反向设计算法受到X切割酸等异型材料的限制.
• 电子束光刻 (EBL) 阻碍了逆向设计的光子设备的大规模制造.

研究的目的:

• 介绍一种针对异性质材料的通用反向设计方法.
• 通过可扩展的深紫外线 (DUV) 刻画来演示反向设计的光子装置的制造.

主要方法:

• 在附加方法中纳入异性质材料的取决于方向的特性.
• 使用基于梯度的优化来生成设备结构.
• 在使用DUV光刻技术的X切薄膜酸平台上制造了一个1x2的电源分割器.

主要成果:

• 在1520nm-1550nm波长范围内实现了操作.
• 显示平均插入损失 (IL) 为0.7dB.
• 获得的功率不平衡小于0.25dB.

结论:

• 一般化的反向设计方法有效地处理光子设备的异性质材料.
• DUV光刻法使复杂光子集成电路的可扩展制造成为可能.
• 这种方法可以为下一代光子集成提供紧,坚固的设备设计.