关于CO2-和H2O-增强可溶性对比度在锡氧光电阻剂中的DFT研究
Fang-Ling Yang1, Zong-Biao Ye1, Dongxu Yang2
1Key Laboratory of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University, No. 24 South Section 1, Yihuan Road, Chengdu 610065, People's Republic of China.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|September 25, 2025
概括
锡的子显示出有前途的光电阻. 水和二氧化碳通过触发交联反应来增强可溶性对比,改善深紫外线 (DUV) 和极紫外线 (EUV) 石版画中的光电阻性能.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 摄影化学的使用.
- 计算化学的计算化学
背景情况:
- 锡氧是新兴的光电阻材料,由于锡的高光子截面和小尺寸.
- 在深紫外线 (DUV) 和极紫外线 (EUV) 石版画中,可溶性对比度增强对于光电阻性能至关重要.
- 在锡氧中涉及CO2和H2O的精确反应机制仍然不太清楚.
研究的目的:
- 在DUV和EUV辐射下,研究氧中的键断裂机制.
- 阐明二氧化碳和二氧化在修改锡氧中间体中的作用.
- 通过小分子对光电阻性能增强提供原子层面的见解.
主要方法:
- 用密度函数理论 (DFT) 的计算来模拟各种辐射条件 (DUV和EUV).
- 系统地研究了-氧中的碳-锡键裂变.
- 分析光生成中间体和CO2/H2O混合物之间的相互作用.
主要成果:
- DFT模拟显示了在DUV和EUV辐射下碳-锡键裂变的途径.
- 从H2O解离中获得的基化合物被确定为关键中间体.
- 这些基中间体启动交叉连接反应 (Sn-O-Sn,Sn-OCO-Sn),显著增强可溶性切换.
结论:
- 氧基物种在氧光电阻剂的可溶性增强机制中发挥着至关重要的作用.
- 了解这些原子级相互作用为设计先进的光电阻材料提供了基础.
- 这项研究为通过分子设计优化光电阻性能提供了新的视角.


