激光金属沉积过程参数对CuSn11Bi3涂层在C45上的结构完整性的影响

Federico Mazzucato1, Edouard Baer2, Samuel Rey-Mermet2

  • 1Department of Innovative Technologies, University of Applied Science and Arts of Southern Switzerland (SUPSI), Via La Santa 1, 6962 Lugano, Switzerland.

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概括

研究人员优化了激光金属沉积 (LMD) 以实现可持续的青铜-钢双金属涂层. 他们通过控制工艺参数和最小化扩散,提高工业应用的结构完整性来实现高密度,无裂纹的CuSn11Bi3涂层.