在低温下通过射频喷射在ITO-玻璃和ITO-PET上开发无形AlN薄膜
Miriam Cadenas1, Michael Sun1, Susana Fernández2
1Universidad de Alcalá, Grupo de Ingeniería Fotónica, Unidad Asociada Instituto de Óptica-CSIC, Tecnologías Fotónicas y de Sensores, 28871 Alcalá de Henares, Spain.
Micromachines
|September 27, 2025
概括
研究人员在低温下在柔性基板上开发了无形化 (AlN) 薄膜. 这一进步显示了灵活的光电子设备的前景,克服了热降解的挑战.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 薄膜技术 薄膜技术
- 光电学是指光电子产品.
背景情况:
- 化 (AlN) 对于光电子和高功率电子来说至关重要.
- 将AlN沉积在具有导电性氧化物 (如ITO) 的柔性基板上,由于热降解而具有挑战性.
研究的目的:
- 在低温下 (RT和100°C) 在ITO玻璃和ITO-PET上沉积和表征AlN薄膜.
- 为了研究喷射功率和沉积温度对AlN特性的影响.
- 评估无形AlN在灵活的光电子应用中的潜力.
主要方法:
- 在低温下 (室温和100°C) 进行反应性喷雾.
- 使用X射线衍射 (XRD),能量散射X射线 (EDX),扫描电子显微镜 (SEM),光学传输和电阻测量进行表征.
- 多样化的喷功率和沉积温度.
主要成果:
- 无形AlN薄膜成功地沉积在ITO玻璃和ITO-PET基板上.
- EDX证实了Al和N的存在,而SEM显示了均和紧的层.
- 光学测量显示大约5.82 eV的宽带隙,电电阻证实了绝缘行为.
结论:
- 低温反应喷雾使无形AlN在柔性基板上沉积起来.
- 无形AlN具有适合灵活光电子设备的光学和电气性能.
- 这项工作证明了将AlN集成到下一代灵活电子产品中的可行途径.
