图形学穆勒矩阵成像:现场系统校准和评估

科学领域:

• 光学物理学的光学物理学
• 纳米技术纳米技术
• 计量学 计量学 计量学

背景情况:

• 准确的极度测量系统对于先进的成像是必不可少的.
• 图解学穆勒矩阵成像 (PMMI) 提供高分辨率的极度测量测量.
• 在现场校准对于补偿系统缺陷至关重要.

研究的目的:

• 为PMMI系统提出并验证混合现场校准策略.
• 为了提高穆勒矩阵测量的准确性,精度和可重复性.
• 建立PMMI作为一种强大的纳米材料表征工具.

主要方法:

• 混合校准结合了自值分解和基于模型的程序.
• 在PMMI系统的操作配置中进行现场校准.
• 使用自制PMMI原型和USAF-1951分辨率目标进行实验验证.

主要成果:

• 实现了0.01的测量准确度和0.005的成像精度Mueller矩阵.
• 证明了0.005.5的测量重复性.
• 成功地弥补了偏振元件的缺陷和安装错误.

结论:

• 拟议的混合现场校准策略显著提高了PMMI系统的性能.
• 校准的PMMI系统是用于纳米材料和纳米结构表征的强大和定量工具.
• 这项工作推动了极度测量成像和计量学领域的发展.