-氧合功能的-合功能的基/基纳米集群使协同 lithography 能够提高分辨率和灵敏度
Zuohu Zhou1, Zeqi Yu1, Ni Zhen1
1Institute of Modern Optics, College of Electronic Information and Optical Engineering, Nankai University, Tianjin 300350, China.
ACS nano
|October 7, 2025
概括
研究人员通过添加可交叉链接的组来增强氧化集群用于纳米图案. 这种功能改进了光刻性能,并使高分辨率的图案制造能够用于先进的材料应用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 化学 化学 化学
背景情况:
- 氧化缺乏光刻反应性,限制了它们在直接纳米图案中的使用.
- 单金属氧集群 (TOCs) 通常对光刻无效.
研究的目的:
- 为了提高氧集群的光刻应用和性能.
- 开发一种直接纳米纹氧化材料的战略.
主要方法:
- 将可交叉链接的基基和基基组纳入-氧基团.
- 用磁醇配体对TOC进行功能化,以促进电子束诱导的聚合.
- 双交叉链接组的功能化,使得乙烯的点击反应.
主要成果:
- 实现了氧化材料的纳米纹理.
- 电子束诱导的基聚合转化使可溶性聚合物变成不溶性网络.
- 与基基和基基组的双重功能使所需的暴露能量减少了70%以上.
- 制造的高分辨率图案,其最小特征大小为12.9nm.
结论:
- 一步一步的可交叉链接组功能化增强了TOC光刻.
- 基/基化TOC提供显著改善的 lithography 灵敏度.
- 这项工作为高分辨率的金属氧化物集群光电阻提供了可行的途径.
