准备生产的双面制造双波段红外光学,使用深紫外线光刻法.

科学领域:

• 光学和光子学 在光学和光子学.
• 材料科学 材料科学 材料科学
• 半导体制造业 半导体制造业

背景情况:

• 超光学利用超表面来实现先进的光学功能,比传统光学产品提供尺寸,重量和成本优势.
• 可扩展的半导体制造工艺对于将元光学从研究转向现实应用至关重要.

研究的目的:

• 引入一种生产准备的方法,用于制造高质量的双面金属表面.
• 为了证明这种方法在创建先进的元光学设备方面的能力.

主要方法:

• 采用深紫外线光刻法,同时对晶片的两侧进行精确对齐的图案设计.
• 采用多重接,制造大面积 (40毫米直径) 的金属镜头.

主要成果:

• 在没有透过晶圆标记的情况下,在前后侧图案之间实现了大约10微米的精确相互对齐.
• 在中长波长红外波段展示了具有独立焦距控制的双频段金属.
• 展示了出色的宽带成像性能,在混合配置中取消了部分色谱分散.

结论:

• 建立了用于红外元光学和双面元表面制造的生产准备方法.
• 开发的方法具有直接的潜力,可以将可扩展的技术转化为现实世界的应用.