在六角化的多层中对光发光辐射的负热火
Yingying Guo1, Ze Long1, Yuhan Xiao1
1State Key Lab of High Pressure and Superhard Materials, College of Physics, Jilin University, Changchun 130012, People's Republic of China.
Nanotechnology
|October 23, 2025
概括
六角化 (h-BN) 多层显示在光发光中异常的负热火. 等离子处理通过增加空位来增强这种效果,从而影响光电子特性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 凝聚物质物理学 凝聚物质物理学
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 六角化 (h-BN) 具有独特的特性,如原子平面和宽带间隙 (>6 eV).
- 它可以容纳稳定,光学活跃的缺陷中心,这使得它对纳米电子和光子学具有前景.
- 底层的光电子物理,特别是缺陷行为,仍然未被充分探索.
研究的目的:
- 在h-BN多层中研究温度依赖的光发光 (PL).
- 描述负热火 (NTQ) 行为.
- 了解等离子辐射对PL和NTQ的影响.
主要方法:
- 化学剥皮,以制备h-BN多层.
- 取决于温度的光发光谱 (93K至293K).
- 等离子辐射和电压测试.
主要成果:
- 在2.25 eV和1.46 eV的辐射下观察到负热火 (NTQ),与典型的热火相反.
- 等离子辐射增加了点空位 (VB,VN) 和增强了NTQ,特别是在更高的温度下.
- 用于热火的提取激活能量在照射后显著增加,表明缺陷动态发生了变化.
结论:
- 提出了一种涉及多个电子陷/解陷通道的NTQ机制.
- 等离子处理引入非辐射通路,影响h-BN.的异常热火现象.
- 该研究提供了对h-BN用于光电子应用的缺陷物理的见解.


