阿贡:氧气气体混合物对直流喷涂沉积物的影响 合成SiO2纳米颗粒的特征
Ruqia A H Hassan1, Fuad T Ibrahim1
1Physics Department, Collage of Science, University of Baghdad, Baghdad, Iraq.
Luminescence : the journal of biological and chemical luminescence
|October 25, 2025
概括
这项研究用不同氧比率合成了纳米结构的二氧化 (SiO2) 薄膜. 最佳比率增强了晶度和可见光吸收性,显示了光电子应用的前景.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 薄膜沉积的情况
背景情况:
- 二氧化 (SiO2) 是一种多功能材料,在电子和光学领域有应用.
- 控制SiO2薄膜的纳米结构对于定制它们的特性至关重要.
- 直流反应磁铁喷射提供了一种用于沉积具有可调节特性的SiO2薄膜的方法.
研究的目的:
- 研究-氧气 (Ar:O2) 气体比对纳米结构SiO2薄膜的结构,形态和光学特性的影响.
- 为了确定最佳的Ar:O2比率,以提高薄膜的性能.
- 评估这些薄膜在光电子应用中的潜力.
主要方法:
- 沉积SiO2薄膜在玻璃基板上使用直流反应磁喷射.
- 合成SiO2纳米粒子使用不同比例的气和氧气气体混合物.
- 使用X射线衍射 (XRD),场发射扫描电子显微镜 (FE-SEM),原子力显微镜 (AFM) 和光学吸收度测量进行了表征.
主要成果:
- XRD揭示了从无形到部分晶体相的过渡,氧含量增加.
- FE-SEM显示了粒子大小的减少,氧气比较高.
- AFM显示,在Ar:O2比率为70:30的情况下,表面最光滑.
- 在50:50 Ar:O2比率下沉积的SiO2薄膜在可见光谱 (400-600 nm) 中表现出最高的吸收率.
结论:
- Ar:O2气体比为控制纳米结构SiO2薄膜的结构,形态和光学特性的一个关键参数.
- 优化的SiO2薄膜显示了光电子设备应用的潜力.
- 进一步的研究可以探索基于这些可调节性质的特定应用.
