分子动力学研究表面膜对单晶的纳米磨砂机制的影响

Meng Li1,2, Di Chang1,2, Pengyue Zhao1,2

  • 1Center of Ultra-Precision Optoelectronic Instrumentation Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China.

Micromachines
|October 29, 2025
PubMed
概括

化 (BN) 和石墨烯薄膜通过抑制芯片的形成和减少地下破坏来改善单晶纳米研磨. 石墨烯提供更强的原子位移抑制,而BN则导致正常力增加较小.