新兴的喷墨兼容防伪墨水基于微流体合成的NIR PbS/CdS量子点
Andi Magattang Gafur Muchlis1, Chong-Ci Hu1, Hoang-Duy Nguyen2
1Institute of Organic and Polymeric Materials, National Taipei University of Technology, Taipei 10608, Taiwan.
JACS Au
|October 31, 2025
概括
研究人员开发了一种微流体方法,用于为近红外 (NIR) 应用合成硫化/硫化 (PbS/CdS) 量子点 (QD). 这种技术使得可扩展生产稳定的NIR发射油墨,用于隐蔽的防伪解决方案.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 光电学是指光电子产品.
背景情况:
- 硫化 (PbS) 量子点 (QD) 显示出有希望的近红外 (NIR) 发射特性.
- 核心外 PbS/CdS QD 通过阴子交换提供了增强的稳定性和可调节的光学特性.
- 工业需求需要PbS/CdS QDs的可扩展合成方法.
研究的目的:
- 开发一个微流体平台,用于PbS和PbS/CdS QDs的大规模控制合成.
- 从合成的QD中生产稳定,NIR发射的油墨,用于防伪应用.
- 为了展示使用NIR发射的喷墨印刷材料的隐蔽光学安全机制.
主要方法:
- 使用微流体装置精确控制合成参数 (流量,混合,温度,停留时间).
- 合成了可调节波长 (1200-1600 nm) 的 PbS QD 和通过阴子交换 (Pb2+ → Cd2+) 的 PbS/CdS 核心外 QD.
- 通过将QDs溶解在聚乙烯的八二甲中,制订了一种油性疏水性墨水,并评估了喷墨打印能力.
主要成果:
- 实现了具有一致光学性能的高度单分散的PbS和PbS/CdS QD.
- 在5分钟内完成PbS/CdS QD合成,显示150nm蓝移和223nm稳定的fwhm.
- 使用喷墨打印机成功打印了隐形的NIR发射图案,只能在NIR成像下检测到.
结论:
- 微流体合成为产生具有所需光学属性的均QD提供了卓越的控制.
- 开发的NIR发射墨水和印刷方法提供了一种新的,低成本的,高安全性的防伪解决方案.
- 这种隐蔽的光学安全方法利用NIR发射进行高级识别和身份验证.
更多相关视频
04:32Author Spotlight: Quantitative Characterization of Liquid Photosensitive Bioink Properties for Continuous Digital Light Processing Based Printing
Published on: April 14, 2023
1.6K
10:31Diffuse Reflectance Infrared Spectroscopic Identification of Dispersant/Particle Bonding Mechanisms in Functional Inks
Published on: May 8, 2015
14.1K
