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Wei Shan Tan1,2, Arthur M de Jong3,2, Menno W J Prins1,3,2,4
1Department of Biomedical Engineering, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, Netherlands. m.w.j.prins@tue.nl.
优化分子量化以点积累为成像纳米级拓学 (PAINT) 是至关重要的. 这项研究开发了一个模拟框架,以确定最佳的PAINT参数,以准确测量密度和空间分布.
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