在遗传影响下发现皮层折叠模式的自主监督学习框架:应用于前皮层
Antoine Dufournet1, Julien Laval1, Denis Rivière1
1Université Paris-Saclay, CEA, CNRS, NeuroSpin, Baobab, Saclay, France.
Imaging neuroscience (Cambridge, Mass.)
|November 10, 2025
概括
研究人员开发了一个新的框架来识别对人类大脑皮质折叠模式的遗传影响. 虽然最初试图将前带带皮层中的特定模式与遗传学联系起来是不确定的,但该方法成功发现了与这些折叠相关的新型遗传位点.
科学领域:
- 神经科学是一个神经科学.
- 遗传学 是一个遗传学.
- 计算生物学 计算生物学
背景情况:
- 皮层折叠模式为人类大脑发育提供了洞察力.
- 高的个体间变异性使这些模式与发育病态的关联变得复杂.
- 前带状皮质,特别是状,具有精神病学意义.
研究的目的:
- 为发现受遗传学影响的候选皮质折叠模式提出一个框架.
- 将这个框架应用于前带皮质前带皮质区域.
- 识别与特定皮层折叠模式相关的新型遗传位置.
主要方法:
- 在36000名英国生物库受试者身上使用了自我监督的深度学习算法,以代表区域折叠变异性.
- 训练有素的线性分类模型来识别和概括折叠模式.
- 应用框架来识别与前带带皮层折叠模式相关的遗传位置.
主要成果:
- 在英国生物银行队列中对状标签的概括没有产生明确的遗传关联.
- 该框架成功发现了右半球的4个位置和左半球的10个位置,与前带带皮层折叠模式相关 (p <5x10^-8).
- 一个位点在一个较小的非白人英国祖先队伍中被复制,许多发现的位点显示了与大脑解剖学或精神病学的先前关联.
结论:
- 开发的框架有效地发现了与特定皮层折叠模式相关的新型遗传位置.
- 虽然没有发现对带皮层形状的直接遗传关联,但该方法突出显示了前带皮层折叠的潜在遗传基础.
- 这些发现有助于理解大脑发育的遗传结构及其与精神疾病的关系.
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