概括
我们开发了一种用于薄膜酸 (TFLN) 光子的新边缘合器. 这种合器显著减少了轻合损失,使得高效的TFLN设备制造和大规模生产成为可能.
科学领域:
- 综合光子学 综合光子学
- 材料科学是一种材料科学.
- 光电学是指光电子产品.
背景情况:
- 薄膜酸 (TFLN) 为集成光子学提供了出色的电光和非线性性能.
- 由于模式场直径与标准光纤不匹配,因此对TFLN波导的高效光合受到阻碍.
研究的目的:
- 为TFLN设计和演示一种新的边缘合器,以克服轻型合的挑战.
- 为了实现低插入损失和宽带宽,以实现高效的光传输.
主要方法:
- 使用垂直堆叠的氧化 (SiON) 和二氧化 (SiO2) 层在形TFLN波导上设计了一种符合 lithography 的边缘合器.
- 合器以600nm的最低线宽制造,以便与i-line步骤光刻相容.
主要成果:
- 在1550 nm时,TE0的低合损失为0.38dB/面,TM0模式的低合损失为0.86dB/面.
- 在300 nm带宽上显示了±3.5 μm的光纤对齐容忍度和<3 dB的损失.
结论:
- 拟议的边缘合器有效地解决了TFLN光子中的模式场不匹配问题.
- 这项技术与大规模生产兼容,为广泛采用TFLN设备铺平了道路.
