一致长度受约束的OPC用于高效的面具细分在先进的石版画

Optics express
|November 11, 2025
PubMed
概括

一种新的基于连贯长度的光学近距离校正 (OPC) 方法通过限制边缘细分来简化面具制造. 这种方法可以降低高级光刻的面具复杂性和计算成本,而不会影响图像质量或性能.