使

Aditya Choudhary1, Saaketh Desai2, Methun Kamruzzaman3

  • 1Sandia National Laboratories, Albuquerque, NM, USA. achoudh@sandia.gov.

Journal of cheminformatics
|November 13, 2025
PubMed
概括

一个新的机器学习模型准确地预测了二元表面活性剂混合物的临界度 (CMC),包括新的组合. 这一框架通过减少实验并实现合理优化,加速了各种行业的表面活性剂设计.