从化学涂层表面清洗有机污染的低压等离子体:一个结合实验和分子动力学研究的研究

Zixu Wang1, Yuhai Li2, Peng Zhang3,4

  • 1Institute of Systems Engineering, China Academy of Engineering Physics Mianyang 621999 China.

RSC advances
|November 20, 2025
PubMed
概括

低压等离子清洗有效地从光学涂层中去除有机污染物,防止激光引起的损伤. 这项研究阐明了微观机制,提高了光学元件的等离子体清洁效率.