波导体集成腔光学机械设备的制造工艺研究,使用化保护化
Chengwei Xian1,2, Pengju Kuang1, Ning Fu1
1School of Information and Communication Engineering, Sichuan Provincial Engineering Research Center of Communication Technology for Intelligent IoT, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 611731, China.
Micromachines
|November 27, 2025
概括
一种新的化 (MgF2) 保护层可以防止氧化物 (SiO2) 在光学机械设备的制造过程中蚀刻. 这种方法成功地保护了长波导,提高了高精度传感应用的生产产量.
科学领域:
- 光子学和微电子机械系统 (MEMS)
- 材料科学用于集成设备的材料科学.
背景情况:
- 基于波导的集成腔光学机械设备对于高精度传感至关重要.
- 制造方面的挑战来自于氧化 (SiO2) 层在酸 (HF) 释放微结构时易受蚀刻的影响.
- 这种蚀刻会导致波导崩并降低生产产量.
研究的目的:
- 为了应对远程波导在光学机械设备制造中的酸 (HF) 蚀刻过程中崩的关键挑战.
- 为氧化 (SiO2) 层提出和验证一种新的选择性保护工艺.
主要方法:
- 开发了一种使用化 (MgF2) 薄膜的选择性保护工艺.
- 使用光学涂层技术,在波导区域上沉积了MgF2保护层.
- 在HF蚀刻过程中实现了特定SiO2区域的局部保护.
主要成果:
- MgF2保护层成功地防止了HF释放期间的SiO2蚀刻.
- 成功释放了长度高达5000微米的波导.
- 显著改善了光机械设备的生产产量.
结论:
- 选择性MgF2保护工艺是一种兼容且高效的策略,用于制造强大的光子微电子机械集成器件.
- 这种方法克服了关键的制造挑战,使得高性能光机械传感器的生产成为可能.
- 该研究提供了一种可行的解决方案,用于提高集成光子制造业的产量.
