在喷化中制造光学通道波导的制造工艺开发
Soheila Mardani1, Bjorn Jongebloed1,2, Ward A P M Hendriks2
1Integrated Optical Systems (IOS) Group, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, 7500AE Enschede, The Netherlands.
Micromachines
|November 27, 2025
概括
化 (AlN) 薄膜被制造用于集成光学. 优化处理在AlN光学波导中实现了较低的传播损失,证明了先进光子设备的潜力.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光电学是指光电子产品.
- 半导体物理 半导体物理
背景情况:
- 化 (AlN) 是一种带宽隙半导体,具有UV-Vis-MIR透明度.
- 它的特性使其适合于集成光子学应用.
- 由于氧化敏感性,加工AlN存在挑战.
研究的目的:
- 为AlN光学通道波导开发一个微制造工艺.
- 为了通过回火减少AlN板波导中的传播损失.
- 用微波振器来描述AlN波导的性能.
主要方法:
- 对于AlN薄膜沉积的反应性射频喷雾.
- 在气氛下在600°C时发火.
- 镜合器和微环共振器 (MRR) 制造用于损失表征.
主要成果:
- 在回火后,在978nm处减少了板状波导的传播损失,为0.84dB/cm.
- 制造的MRR获得了12,000的质量因子.
- 频道波导在1510-1515nm时表现出4.4dB/cm的传播损失.
结论:
- 开发的微型制造工艺使AlN光通道波导实现.
- 确定了主要的损失机制,并提出了优化策略.
- 是集成光子电路的可行材料,需要进一步的工艺改进.
