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Mu Lin1, Le Ma2,3, Lisong Dong2,3
1Key Laboratory of Photoelectronic Imaging Technology and System of Ministry of Education of China, School of Optics and Photonics, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China.
这项研究引入了一种新的两阶段Unet框架,用于预测分辨率辅助特征 (SRAF) 参数,提高光刻精度. 该方法通过显著减少图案和边缘放置错误来提高图像保真度.
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