Yang Liu1, Hongsheng Shi2, Siyuan Shen3

  • 1School of Information Science and Technology, ShanghaiTech University, Shanghai, 201210, China; School of Physical Science and Technology, ShanghaiTech University, Shanghai, 201210, China; Shanghai Key Laboratory of High-resolution Electron Microscopy, ShanghaiTech University, Shanghai, 201210, China.

Ultramicroscopy
|November 27, 2025
PubMed
概括

研究人员开发了一种新的相检索方法,将神经场 (NF) 和退出波重建 (EWR) 结合起来,用于使用低剂量传输电子显微镜 (TEM) 进行高质量的辐射敏感材料原子尺度成像. 这种EWR-NF技术从最小的数据中揭示了原子细节,使微妙结构的精确分析成为可能.