概括
我们为薄膜酸 (TFLN) 波导开发了一种i-line光刻兼容的边缘合器. 这种合器实现了低插入损失,使TFLN设备能够高效地进行光纤合.
科学领域:
- 光子学和光学工程 光子学和光学工程
- 材料科学 材料科学 材料科学
背景情况:
- 薄膜酸 (TFLN) 对于非线性和电光应用至关重要.
- 有效的光纤合对于TFLN设备集成至关重要.
研究的目的:
- 为TFLN.设计和演示一个i-line光刻相容的边缘合器.
- 为了实现低合损失和宽带性能.
主要方法:
- 制造一个形的TFLN波导与一个堆叠的石覆盖层.
- 使用i-line光刻技术,以确保制造兼容性.
- 通过实验测量特定波长频段的合损失.
主要成果:
- 在TE0模式下实现了2.80dB/面的测量合损失.
- 在1510-1630nm波长范围内保持合损失低于3dB/面.
- 合器的最小线宽为600nm,可以进行i-line光刻制造.
结论:
- 开发的边缘合器与标准的i-line光刻相兼容.
- 合器为TFLN设备提供高效和宽带性能.
- 这项工作有助于将TFLN集成到实际的光子系统中.
