在2D MoS2和V-Doped MoS2中进行构成的非破坏性成像和量化,采用奥格散射图法

L'ubomír Vančo1, Ravi K Biroju1,2,3, Mário Kotlár1

  • 1Centre for Nanodiagnostics of Materials, Faculty of Materials Science and Technology, Slovak University of Technology in Bratislava, Vazovova 5, Bratislava 812 43, Slovakia.

概括

奥格散射图提供了一种非破坏性的方法来表征二硫化 (MoS) 表面,揭示元素分布和V兴奋剂效应. 这种技术在2D材料中提高了Auger电子光谱 (AES) 精度高达30%.