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Updated: Jun 17, 2026

Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators
Published on: July 2, 2012
Luca Sacchi1,2, Alfonso Palmieri1, Vitthal Mishra3,4
1Harvard John A. Paulson School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02134, United States.
使用二氧化 (SiO2) 的低指数元表面,通过抑制不必要的模式,优于像 (TiO2) 这样的高指数材料. 这使得高效,宽带和耐错误的平面光学制造成为可能.
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主要成果:
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