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Luca Sacchi1,2, Alfonso Palmieri1, Vitthal Mishra3,4

  • 1Harvard John A. Paulson School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02134, United States.

Nano letters
|December 8, 2025
PubMed
概括

使用二氧化 (SiO2) 的低指数元表面,通过抑制不必要的模式,优于像 (TiO2) 这样的高指数材料. 这使得高效,宽带和耐错误的平面光学制造成为可能.