低温激光结晶纳米板场效应晶体管使单体3D集成成为可能
Jeong Yeon Im1, Hanbin Lee1, So-Jeong Park1
1School of Electrical Engineering, Kookmin University, Seoul 02707, Korea.
ACS applied materials & interfaces
|December 9, 2025
概括
我们使用激光化开发了一种低温纳米板晶体管制造方法. 该技术通过结晶和激活剂在单个步骤中实现了先进的3D集成,这对于未来的电子产品至关重要.
科学领域:
- 半导体设备制造业 半导体设备制造业
- 材料科学是一种材料科学.
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 单立体三维 (3D) 集成需要低热预算的制造工艺.
- 传统的结晶和剂激活方法往往超过3D架构的热极限.
研究的目的:
- 为纳米板 (SiNS) 场效应晶体管 (FET) 开发低温制造战略.
- 通过使用简化过程,使SiNS FET集成到单立体3D (M3D) 架构中.
- 为了优化高性能设备的激光化参数.
主要方法:
- 使用无形 (a-Si) 作为通道材料.
- 采用单步纳秒脉冲Nd:YAG激光火,用于同时结晶和剂激活.
- 控制激光流量以优化晶体质量和电气性能.
- 进行结构 (TEM) 和电气分析 (接口陷密度,串联电阻).
主要成果:
- 在-450°C以下的热量预算内实现a-Si的同时结晶和源/排水剂激活.
- 优化了激光流动性,以最大限度地减少接口陷密度,并改善载体移动性和下值摆动.
- 演示了激光制设备的性能与传统处理的晶体管相提并论.
- 经过验证的最低热扩散到底层.
结论:
- 开发的激光火技术是制造SiNS FETs的可扩展和热兼容的方法.
- 这种方法解决了M3D集成的关键限制,使未来3D半导体系统中的高性能逻辑设备成为可能.


