高性能极端紫外线光刻的途径 抵抗: 分离式电子附着在五二三酸盐上
Mónica Mendes1, Reza Tafrishi2, Pedro Guerra1
1CEFITEC, Department of Physics, NOVA University Lisbon, School of Science and Technology, 2829-516 Caparica, Portugal.
iScience
|December 16, 2025
概括
高灵敏度电阻对于极端紫外线光刻 (EUVL) 非常重要. 这项研究揭示了光酸发生器 (PAG) 中的电子驱动化学可以意外地阻碍,而不是帮助酸生成,影响EUVL抵抗灵敏度.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 化学 化学 化学
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 极端紫外线光刻 (EUVL) 需要为下一代技术节点提供高灵敏度阻抗配方.
- 化学放大电阻 (CAR) 是EUVL中的关键组件,依赖光酸发生器 (PAG).
- 中性PAG通常用于EUVL应用的CAR.
研究的目的:
- 为了研究半二三酸盐的低能电子驱动化学物质,一个中性 PAG.
- 了解解离电子附着 (DEA) 在EUVL电阻中的酸生成过程中的作用.
- 通过优化PAG化学,确定提高EUVL电阻的灵敏度的策略.
主要方法:
- 对五二三酸的离散电子附着 (DEA) 的实验研究.
- 理论计算以阐明电子驱动的化学路径.
- 对DEA对酸生成效率的影响分析.
主要成果:
- 发现对五二三酸的离散电子附着 (DEA) 灭了,而不是促进了酸生成.
- 这种火效应很可能是EUVL中使用的中性PAG的一般性.
- 这些发现表明,目前在EUVL中的CAR配方面临着重大挑战.
结论:
- 由于不必要的电子驱动化学,当前中性PAG可能在EUVL中表现出降低的效率.
- 提出了一种新的方法,利用DEA增强而不是抑制酸生成.
- 通过了解电子相互作用来优化PAG化学是改善EUVL抵抗灵敏性的关键.


