线 :

Mónica Mendes1, Reza Tafrishi2, Pedro Guerra1

  • 1CEFITEC, Department of Physics, NOVA University Lisbon, School of Science and Technology, 2829-516 Caparica, Portugal.

iScience
|December 16, 2025
PubMed
概括

高灵敏度电阻对于极端紫外线光刻 (EUVL) 非常重要. 这项研究揭示了光酸发生器 (PAG) 中的电子驱动化学可以意外地阻碍,而不是帮助酸生成,影响EUVL抵抗灵敏度.