线,

Jungang Zhang1, Venkatarao Selamneni2, Bhavani Prasad Yalagala1

  • 1Microelectronics Laboratory (meLAB), James Watt School of Engineering, University of Glasgow, Glasgow G12 8QQ, U.K.

ACS nano
|December 16, 2025
PubMed
概括

我们开发了一种新方法,使用界面介电泳 (i-DEP) 和激光处理来精确对准和增强柔性膜上的纳米线 (NW). 这提高了先进电子产品的电气性能和电磁干扰屏蔽.

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