薄膜酸上的带载波导体是通过多光子光刻法实现的
Optics express
|December 19, 2025
概括
研究人员开发了一种新的,更快的方法,使用多光子光刻法创建酸 (LN) 波导. 这种无蚀刻技术提供了较低的传播损失,并使基板可用于可持续的光子集成电路开发.
科学领域:
- 综合光子学 综合光子学
- 材料科学是一种材料科学.
- 纳米制造的纳米制造
背景情况:
- 集成光子学对于未来的光子系统至关重要.
- 基酸 (LN) 具有优异的非线性和电光性能.
- 传统的LN波导制造复杂且耗时.
研究的目的:
- 展示薄膜LN波导的无蚀刻制造方法.
- 为了减少LN波导制造中的生产时间和材料浪费.
- 为了实现酸光子集成电路 (PIC) 的可持续发展.
主要方法:
- 采用多光子光刻法用于波导制造.
- 开发了一种带载波导设计.
- 证明了在LN基板上擦除和重新打印聚合物片.
主要成果:
- 在1550 nm. 达到0.15 dB/cm的传播损失.
- 与传统方法相比,大大减少了生产时间.
- 通过聚合物条形重编程成功证明了基质的再利用.
结论:
- 无蚀刻多光子光刻方法为LN波导制造提供了可行的替代方案.
- 这种方法通过允许基板重复使用和减少废物来提高可持续性.
- 该技术可转移到其他薄膜平台,扩大了PIC开发的机会.


