概括
本研究提出了激光扫描暗场检查系统的新理论框架,通过减少表面粗的噪声来改善晶圆上100nm以下缺陷的检测.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 光学计量学是指光学计量学.
- 表面科学是一门科学.
背景情况:
- 由于表面粗,在无图案晶圆上检测100nm以下的缺陷具有挑战性.
- 传统方法依赖于经验方法,缺乏理论依据.
研究的目的:
- 介绍激光扫描暗场检查的完全理论优化框架.
- 提高100nm以下缺陷的检测灵敏度.
主要方法:
- 使用双向反射分布函数 (BRDF) 模型,推导出一个信号噪声比 (SNR) 度量.
- 引入了一种新的BRDF变异 (BRDFV) 模型来量化粗度引起的噪声.
- 应用了一个两阶段的优化过程.
主要成果:
- 在各种噪声条件下将可检测的最小粒子半径降低了高达60%.
- 展示了一个强大而可扩展的框架.
结论:
- 开发的理论框架为下一代晶圆检查工具提供了一条途径.
- 该系统可扩展到多道系统,用于高级分类任务.


