检测和表征等离子体生成的Stannane:表面组成对物种形成的影响
Joshua Rieger1, Thorsten Benter1, Hendrik Kersten1
1Department of Physical and Theoretical Chemistry, University of Wuppertal, Wuppertal, Germany.
Rapid communications in mass spectrometry : RCM
|December 22, 2025
概括
在EUV光刻中的等离子蚀刻形成了,这可能导致二次污染. 这项研究使用质谱测量来识别锡化物化合物,并发现有氧化物种,突出了表面反应在它们形成中的作用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 等离子体物理学的物理学
- 表面化学 表面化学
背景情况:
- 锡沉积在极紫外线 (EUV) 光刻中是一个挑战,原因是目标材料的蒸发.
- 等离子体用于去除锡,形成挥发性斯坦 (SnH4),但其分解可能会导致再污染.
- 了解的形成和分解途径对于减轻EUV光源中的污染至关重要.
研究的目的:
- 为了研究元素锡在等离子体中的蚀刻机制.
- 为了识别和描述过程中形成的中性和离子化化合物.
- 由于现有的数据有限,使用质谱学建立全面的参考测量.
主要方法:
- 实验室规模的实验,将元素锡暴露在等离子体中.
- 质谱测量用于识别和表征化物种 (中性和离子).
- 定制分析程序RASP用于计算来自同位素叠加质量信号的碎片分布.
主要成果:
- 实验性质谱显示了和化物碎片的十种天然同位素.
- 观察到的物种包括血中形成的本地离子和电子电离的二次产物.
- 检测到显著存在的含氧物种在血生成的stannanes.
- 分析强调了表面反应在形成这些含氧物种中的重要性.
结论:
- 质谱法是分析锡化物的合适技术.
- 表面反应在氧化的形成中起着至关重要的作用.
- 这些发现提供了有关EUV光刻画中污染的等离子体表面相互作用的见解.
