tCAP ((N3) 的发展:为特定站点原生IgG修饰的亲和辅助的pH触发策略

Hiroko Kawakami1,2, Abdur Rafique1, Shugo Tsuda2

  • 1Graduate School of Science and Engineering, Kagoshima University, Kagoshima, Japan.

概括

我们开发了无痕化学结合 (tCAP(N3)),这是一种通过亲和修改抗体的新方法. 这种技术使选择性转移成为可能,产生稳定的抗体结合体,保持生物功能.