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Updated: Jan 7, 2026

08:14
Atom Probe Tomography Analysis of Exsolved Mineral Phases
Published on: October 25, 2019
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用于MPT的AI辅助复合蚀刻模型
Yanbin Gong1, Fengsheng Zhao1, Devin Sima2
1Dongfang Jingyuan Electron Co., Ltd., Beijing 100176, China.
Micromachines
|December 31, 2025
概括
本研究介绍了一种人工智能辅助的先进半导体光刻模型,改进了蚀刻轮模拟和热点检测,在复杂的造电路中使用石刻-石刻-石刻-石刻过程.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 计算建模 计算建模
- 人工智能的人工智能
背景情况:
- 先进的半导体节点需要为复杂的造电路提供高精度的图案.
- 石墨-蚀刻-石墨-蚀刻 (LELE) 是深紫外线 (DUV) 工艺中的一个关键的多重图案技术 (MPT).
- 在LELE中建模蚀刻轮模拟和热点检测是具有挑战性的,因为LE循环之间的相互作用.
研究的目的:
- 开发一个人工智能 (AI) 辅助的复合蚀刻模型用于LELE过程.
- 为了准确地捕捉LE循环之间的相互作用,以改进模拟.
- 为了实现基于Etch规则检查 (ERC) 的After Etch Inspection (AEI) 热点的检测,并预测After Develop Inspection (ADI) 目标生成的Etch偏差.
主要方法:
- 开发了一个人工智能辅助的复合蚀刻模型,直接输出最终的LELE后蚀刻轮.
- 该模型捕捉了LELE过程中固有的LE循环间相互作用.
- 该模型预测了各种模式类型的蚀刻偏差,包括复杂的2D模式.
主要成果:
- 人工智能辅助的模型成功地捕捉了LE之间的相互作用,使最终LELE后蚀刻轮的直接输出成为可能.
- 启用了基于Etch规则检查 (ERC) 的模拟检测,可以检测Eitch检查后 (AEI) 热点.
- 精确预测复杂的2D模式的蚀刻偏差,为开发后检查 (ADI) 目标生成提供了自动重定位.
结论:
- 拟议的人工智能辅助复合蚀刻模型有效地解决了LELE过程模拟和热点检测的挑战.
- 该模型提高了先进的半导体节点复杂的造电路图案的精度.
- 该框架显示了适应其他复杂的MPT挑战的潜力,例如自行调整反向模式 (SARP) + 切割.

