孔纹皮膜:改善极端紫外线发射率和机械行为的结构方法
Haneul Kim1,2, Jungyeon Kim1, Young Woo Kang1,2
1Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 04763, Republic of Korea.
Materials (Basel, Switzerland)
|January 10, 2026
概括
一种新的孔纹设计通过提高透射率和机械稳定性来增强极端紫外线 (EUV) 石版. 这种几何方法为皮膜优化提供了超越传统方法的新途径.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学工程是指光学工程.
背景情况:
- 高通量极紫外线 (EUV) 光刻要求具有最佳透射率的薄膜.
- 传统的皮膜优化方法 (材料选择,稀释) 正在达到实际的极限.
- 需要替代架构来克服当前的局限性.
研究的目的:
- 调查一个有孔图案的膜结构作为连续膜的替代方案.
- 分析几何设计对EUV透射率和机械性能的影响.
- 为先进的皮膜发育提供设计相关的趋势.
主要方法:
- 用EUV传导度测量与开放比率 (OR) 相对应.
- 伪光谱时间域 (PSTD) 模拟用于结构和光学分析.
- 石版空中图像模拟以评估图案扭曲.
- 机械膨胀试验用于压力偏差和故障分析.
主要成果:
- 传输率随着OR增加,与理论模型保持一致,但在高OR时显示偏差.
- 除了在高度连贯的照明下,图案扭曲是最小的,通过增加半径sigma来抑制.
- 孔纹膜表现出改变的压力偏移行为和更窄的故障分布.
- 周期性穿孔会影响传导率和机械响应.
结论:
- 孔纹片为EUV光刻提供了一个可行的几何设计策略.
- 这种方法补充了现有的材料和厚度优化技术.
- 该研究提供了关键的洞察力,了解传导能力,机械完整性和缺陷灵敏度之间的权衡.
