低损耗化克尔微型化器是用金属蚀刻口罩制造的,采用金属升降方式进行

科学领域:

• 综合光子学 综合光子学
• 材料科学是一种材料科学.
• 光学工程的光学工程.

背景情况:

• 化是由于其光学特性而成为一个关键的集成光子材料.
• 标准的蚀刻口罩面临着化的蚀刻阻力方面的挑战,导致图案传输不佳.
• 高比例图案阻碍了等离子蚀刻,导致尺寸不准确和粗的侧墙.

研究的目的:

• 开发一种改进的蚀刻口罩,用于高保真化波导制造.
• 为了克服反应性离子蚀刻中传统抵抗面具的局限性.
• 为了使使用化创建高性能光子设备.

主要方法:

• 开发了一种金属蚀刻面具,使用金属升降过程.
• 实现了30:1化与金属蚀刻速率的比率.
• 制造的微环共振器和光学频率.

主要成果:

• 显著减少了45倍的所需面具厚度.
• 制造了具有近垂直波导侧墙的微环共振器.
• 实现了超过100万的内在质量因素.
• 生成的光学频率,带宽超过八度,具有双分散波.

结论:

• 金属提升是一种可行且有效的技术,用于制造高质量的化波导.
• 这种方法促进了低光损耗设备的生产.
• 该技术可以实现先进的光子应用,包括宽带光学频率.