从1988年到2023年对粒子材料的原子层沉积:对技术,材料和应用的定量审查
Peter M Piechulla1, Mingliang Chen1, Aristeidis Goulas1
1Department of Chemical Engineering, Delft University of Technology, Delft 2629 HZ, The Netherlands.
原子层沉积 (ALD) 用精确的控制来覆盖粒子. 本综述分析了关于颗粒物材料的ALD的799篇文章,涵盖了反应器,涂料以及催化和电池等应用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 化学工程是化学工程的重要组成部分.
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 原子层沉积 (ALD) 是一种成熟的技术,主要用于半导体行业的平面基板.
- 由于ALD具有与原子级厚度控制的符合性涂层的独特能力,因此非常适合颗粒物材料.
- 用ALD涂层颗粒在各种科学和工业领域提供了重大潜力.
研究的目的:
- 为粒子材料应用的原子层沉积 (ALD) 提供全面的审查.
- 在这个领域进行799篇研究文章的定量分析.
- 建立一个数据集,以了解粒子的ALD,包括反应堆类型,材料和条件.
主要方法:
- 对799篇文章进行了系统的文献审查和定量分析.
- 数据提取和抽象反应堆类型,涂层材料,反应物,支物和加工条件.
- 对颗粒物材料的ALD应用的分类.
主要成果:
- 关于颗粒物材料的详细ALD数据集,允许访问特定的加工条件.
- 在粒子 ALD 中使用的常见反应器类型,涂层材料和支物的识别.
- 关键应用的概述,包括催化剂,电池,和医疗保健.
结论:
- 关于颗粒物材料的ALD是一个成熟的领域,具有多样化的应用.
- 开发的数据集提高了对文献和处理信息的可访问性.
- 预计未来反应堆设计,材料选择和应用扩展的发展.
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