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Updated: Jan 31, 2026

Fabrication and Characterization of Superconducting Resonators
Published on: May 21, 2016
薄型无形氧化超导外围绕单个纳米线,通过磁铁子共喷射沉积通过磁铁子共喷射
Luize Dipane1, Martins Zubkins1, Gunta Kunakova2
1University of Latvia Institute of Solid State Physics, Kengaraga street 8, LV-1063, Riga, Latvia, Riga, 1063, LATVIA.
无形化 (MoSi) 薄膜成功地沉积在纳米线上,简化了量子设备的制造. 优化的薄膜达到7.25K的临界温度,从而实现了新的量子应用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 凝聚物质物理学 凝聚物质物理学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 晶体超导体在材料沉积和量子器件纳米级原型设计方面存在挑战.
- 无形超导体为制造先进的电子和光子设备提供了一个更简单的替代方案.
研究的目的:
- 为了证明无形化 (MoSi) 薄膜在包括纳米线在内的各种基板上沉积的情况.
- 优化MoSi薄膜,以提高与量子应用相关的超导性能.
主要方法:
- 脉冲直流磁力龙对和目标的联合喷射.
- 氧化 (Al2O3) 隔热外的原子层沉积在氧化 (Ga2O3) 纳米线上.
- 使用电子显微镜,X射线衍射和X射线光电子光谱学进行表征.
- 低温电气测量用石版定义的接触.
主要成果:
- 在平面晶片和Ga2O3-Al2O3核心外纳米线上成功沉积无形MoSi薄膜.
- 通过喷射功率控制优化与的比率.
- 在优化的MoSi膜中达到7.25K的临界温度 (Tc).
结论:
- 无形MoSi薄膜适用于制造纳米线上的超导外.
- 这些超导核心外纳米线为基础研究和集成到量子设备中提供了潜力.
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