关于Ga-Face GaN的异质性质和原子尺度蚀刻机制:对酸性和性溶液的比较研究

Ye Chen1, Xi Chen1, Yan Xing1

  • 1Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Dept. of Mechanical Engineering, Southeast University, Nanjing 211189, China.

概括

这项研究精确地测量了化 (GaN) 蚀刻速率,使用KOH/乙烯基醇 (EG) 的新型结构. 结果详细介绍了异型蚀刻机制,并预测了用于先进的GaN设备制造的微观结构演变.