4H-SiC晶片的超精密切割的加工特性,通过切割刀片切割
Yufang Wang1, Zhixiong Li2, Fengjun Chen3
1College of Intelligent Manufacturing, Hunan Open University, Changsha 410004, China.
Micromachines
|February 27, 2026
概括
这项研究优化了4H-SiC晶片的切片参数,以尽量减少切片缺陷. 了解材料去除机制是提高半导体制造质量的关键.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 半导体制造业 半导体制造业
- 机械工程 机械工程
背景情况:
- 在半导体包装中,4H-SiC晶片的切片是非常重要的.
- 4H-SiC的高硬度和脆性导致在切割过程中产生裂纹和裂.
- 尽量减少碎片缺陷对于半导体产量和可靠性至关重要.
研究的目的:
- 调查工艺参数对4H-SiC晶片切片的影响.
- 在切割过程中分析碎片形成和材料去除机制.
- 确定最佳的切片参数,以减少切片缺陷.
主要方法:
- 实施了螺旋轴电流测量方案来监测研磨力.
- 进行了单一因素实验,对切割深度,线速度,料速度和磨料粒径进行了变化.
- 分析了切割接触区域,切片和侧墙的形态.
主要成果:
- 确定了影响切片质量的关键过程参数.
- 建立了过程参数和芯片化行为之间的关系.
- 获得了最佳的工艺参数,以减少碎片.
结论:
- 提供了4H-SiC晶片切割过程中材料去除的基本理解.
- 为优化半导体制造中的切割工艺提供了指导.
- 有助于提高半导体包装的质量和效率.
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